第823章 追光行动3（第2页）

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再多的，无非是时间问题。

钱，你们不用考虑。至于基础材料什么的，我会启动另外一个计划来解决，绝对不会短科研一个材料。”

他的话语中透露出强大的自信和决心，让在座的各位大佬都感到了一种前所未有的振奋。

那边的黄令仪此时却给他破了一盆冷水，“小卿，不要盲目乐观。并不是有光刻机就‘大功告成’，可以开始‘印芯片’了。

光刻机更像是中间执行的环节，而在执行前后，还需要很多同样重要的工作，比如说计算光刻和量测。”

术业有专攻，她担心其他做元件和器件的同行不懂，进一步开口解释着，

“计算光刻指的是利用各种物理，化学和数学模型去计算模拟真实光刻生的过程和结果。

通过修改各种参数，寻找最优的参数组合来修正掩膜板的图形和光源形状，来提升光刻的质量。

这种模拟仿真的思路类似造飞机的时候需要经过很多次的风洞实验，都通过之后才能进行真正的试飞，否则既危险又成本高昂。

计算光刻已经成为现代光刻技术研的核心和最重要的环节之一。”

那边的徐端颐也补充着，“量测，就是进行芯片的缺陷检测，判断芯片是否合格。

一个晶圆的制作可能包含近百次的曝光，由于每次曝光的间隔都需要对晶圆进行移动调整，为了保证移动的稳定和精准，避免出现小至几纳米的误差导致芯片报废，就需要不断的对晶圆在纳米尺度做量测，并且实现校正和结果的反馈，从而不断的提升良率……”

徐端颐的话还没说完，就被卿云展示出来的ppt给打断了，而后一脸便秘的望着台前正无良笑着的少年。

狗日的！

你便宜老师科普的时候你不打断，我特么说话的时候你就来打脸是吧！

手里的茶杯盖子都想呼在那臭屁小子的脸上了。

太不尊老了！

台上的卿云嘿嘿的笑着，“集成电路制造的主要流程大概是，opc、smo计算光刻涂胶曝光显影刻蚀离子注入光刻胶移除沉积下一层制程量测检验。

这十大工序，如同上面光刻机器的七大系统，我都进行了考虑和安排……”

徐端颐的内心虽然被卿云突如其来的ppt展示打断而感到有些尴尬，但随即他的心中却涌起了一股莫名的欣喜。

他心中暗自思忖：“这小子，确实有两把刷子。这种打脸，打得我舒坦。这说明了，他确实对各个环节都了如指掌，并且一一做了预案。”

徐端颐望着卿云的眼神中，不禁流露出了赞许的神色。

他知道，卿云的准备充分，意味着整个项目的成功概率将会大大提高。

在科研领域，一个详尽的预案往往能够决定一个项目能否顺利进行。

这种被后辈以实力打脸的感觉，让他既感到有些没面子，但同时也感到欣慰。

他明白，他们已经老了，甚至这里坐着的不少人，其实已经到了油尽灯枯的年纪。

科研的未来需要依靠这些有准备、有远见的年轻人，而卿云，无疑是其中的佼佼者。

“小卿，你这准备……做得好！”

徐端颐毫不掩饰自己的赞赏，他的声音中透露出一丝宽慰，“有你这样的年轻人在，我们这些老骨头也就放心了。”

云帝微微一笑，他知道，这些前辈们的认可，是他前行路上最宝贵的支持。

他点了点头，认真地说道，“徐老爷子，您放心，我会尽我所能，确保每一步都走得稳健。”

那边一直没有说话的王守觉，此时皱着眉头问着，“小卿，我有个疑问，你能不能给我解惑？”

给大佬解惑？

面对华国半导体界的‘小王先生’，云帝自然是不敢这么托大的，请‘小王先生’但说无妨。

王守觉也没有客气什么，“小卿，你在开始就一直在向我们灌输商业循环的概念。

但是，涉及到光刻机的时候，我感觉……你仿佛并没有考虑光刻机本身的商业化。

因为你的讲解和方案里面，第一我没有看见你让小徐去规避专利技术，第二我也没有看见方案里面有集成化的参与。

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