第277章 EUV光刻机与DUV光刻机（第1页）
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当然，此时的绝大部分记者们并不知道如果想要生产9o纳米和65纳米芯片。
其实不一定需要采用第5代浸没式光刻机技术，直接研采用第四代的arF干式光刻机技术也行。
因为第四代的arF干式光刻机的光源波长是193nm，这193nm光源波长理论上最高是能生产65纳米芯片的。
但做事不能考
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